工業級增材制造設備

Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。更多增材制造的信息，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。工業級增材制造設備

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。重慶微流道增材制造三維微納米加工系統增材制造技術正在改變產品的設計和生產方式。

Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?！癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。

全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個用于熔融石英玻璃微納結構3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性，出色的熱穩性，機械性能和化學穩定性脫穎而出。這為探索生命科學，微流控，微納光學，材料工程和其他微納技術領域的新應用開辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性，化學和機械穩定性以及光透性的高精度3D微納加工應用。雙光子聚合技術（2PP）的高精度結合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推動者生命科學，微流控，微納光學及其他領域新應用的發展和探索。“盡管所需的后期熱處理要求很高，GP-Silica在我們研究制造復雜的微流體系統方面具有巨大的潛力?！比鹗扛ダ锉ご髮W工程與建筑學院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。

增材制造（Additive Manufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數字模型文件為基礎，通過軟件與數控系統將金屬材料、非金屬材料以及醫用生物材料，按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品的制造技術。相對于傳統的、對原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過材料累加的制造方法，從無到有。這使得過去受到傳統制造方式的約束，而無法實現的復雜結構件制造變為可能。增材制造技術是一種三維實體快速自由成形制造新技術。廣東科研增材制造設備

增材制造可減少材料浪費和能源消耗。工業級增材制造設備

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高工業級增材制造設備

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